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厦门联芯28纳米HKMG试产良率创历史新高

2018-03-29 08:06:13骆余民 来源： 东南网  责任编辑： 段马水   我来说两句
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东南网讯（海峡导报记者 骆余民 通讯员雷飏）导报记者昨日获悉，位于厦门火炬高新区的联芯集成电路制造（厦门）有限公司，已于今年2月成功试产采用28纳米HKMG（高介电常数金属闸极）工艺制程的客户产品，试产良率高达98%，创历史新高。这也是中国大陆目前集成电路最先进技术最高良率。

据介绍，联芯28纳米High-K/Metal　Gate　工艺制程采用了目前全球最先进的Gate　Last制程技术，能大幅减少栅极的漏电量，提升晶体管性能，可应用于更多样化的各类电子产品，包括高性能应用处理器和移动基带功能。

联芯集成电路制造项目总投资62亿美元，于2016年11月正式营运投产，是海峡两岸合资建设的第一座12英寸晶圆厂，也是福建省目前投资金额最大的单体项目。

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